Това е само предварителен преглед!

Диелектрични слоеве от SiO2 и Si3N4 . Волт – фарадни характеристики на МОS структура.

При производство на микроелектронни елементи се използват диелектрични слоеве от SiO2, Si3N4, Al2O3, Ta2O5, TiO2 и др....

Диелектрични слоеве от SiO2 и Si3N4 . Волт – фарадни характеристики на МОS структура.

Предмет: Технически науки
Тип: Упражнения
Брой страници: 3
Брой думи: 382
Брой символи: 3738
Изтегли